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應(yīng)用專題 - 量子點(diǎn)墨水粘度測(cè)定
更新時(shí)間:2018-12-04   點(diǎn)擊次數(shù):2786次

量子點(diǎn)簡(jiǎn)介:

量子點(diǎn)(Quantum dot,QD)又稱半導(dǎo)體納米晶,是一類由II-VI族元素(如CdS、CdSe、CdTe、ZnSe、ZnS等)或III-V族元素(無鎘量子點(diǎn),如InP、InAs等)等半導(dǎo)體材料構(gòu)成的尺寸在1-10nm之間的納米顆粒。量子點(diǎn)具有光色純度高、發(fā)光量子效率高、發(fā)光顏色可調(diào)、使用壽命長(zhǎng)等優(yōu)良特性。這些特性使得以量子點(diǎn)材料作為發(fā)光層的量子點(diǎn)發(fā)光二極管(QLED)在固態(tài)照明、平板顯示等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景,受到了學(xué)術(shù)界以及產(chǎn)業(yè)界的廣泛關(guān)注。

量子點(diǎn)墨水粘度測(cè)定的意義

 

傳統(tǒng)有機(jī)發(fā)光二極管顯示器件相比,QLED具有發(fā)光峰窄、色彩飽和度高、色域?qū)挼葍?yōu)點(diǎn)。當(dāng)前QLED實(shí)現(xiàn)像素化、全彩化的解決方式有轉(zhuǎn)印法、微接觸式打印法、刮涂法、噴射打印法、噴墨打印法等。相對(duì)于前面幾種方法,噴墨打印技術(shù)可以地按所需用量將量子點(diǎn)發(fā)光材料沉積在適當(dāng)位置,使半導(dǎo)體材料均勻沉積形成薄膜層,由此使得材料的利用率非常高,同時(shí)制造商可以降低生產(chǎn)成本,簡(jiǎn)化制作工藝,產(chǎn)品容易量產(chǎn)和普及。噴墨打印技術(shù)的關(guān)鍵在于量子點(diǎn)墨水的制備,墨水的粘度直接影響噴墨過程及薄膜干燥過程,是衡量噴墨打印效果的重要參數(shù)。量子點(diǎn)墨水通常由量子點(diǎn)材料分散在有機(jī)試劑中,由于量子點(diǎn)材料本身是納米顆粒,所以很難得到高粘度的墨水,墨水粘度過低,使得打印過程中墨滴不易控制,易出現(xiàn)彗星點(diǎn)、邊緣厚中間薄的咖啡環(huán)等問題,從而導(dǎo)致量子點(diǎn)膜厚度不一致,均勻性很差。

大量研究表明,在量子點(diǎn)墨水的配制過程中,可通過優(yōu)化溶劑配方及配比,適當(dāng)添加粘度調(diào)節(jié)劑,引發(fā)劑及其他助劑等方法以適當(dāng)提高墨水粘度,解決墨水因粘度過低而導(dǎo)致的上述噴墨打印的難題。使其能夠滿足噴墨打印工藝要求,實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定出墨、穩(wěn)定鋪展、干燥均勻、成膜均一等技術(shù)要求。 

量子點(diǎn)墨水粘度測(cè)定

 

   使用“Multi Point”功能采集數(shù)據(jù),“Test Averaging”功能計(jì)算粘度平均值,并觀察和分析測(cè)試過程中儀器穩(wěn)定性及數(shù)據(jù)波動(dòng),根據(jù)圖2可知,該量子點(diǎn)墨水在轉(zhuǎn)速為15 RPM條件下測(cè)得的粘度值為10.18cP;測(cè)試過程中,數(shù)據(jù)波動(dòng)非常小,相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差僅為0.04%。Brookfield數(shù)顯粘度計(jì)*的連續(xù)感應(yīng)器可以保證測(cè)試數(shù)據(jù)輸出的實(shí)時(shí)性和準(zhǔn)確性。此外,測(cè)試過程中,溫度非常穩(wěn)定,始終保持在25±0.01℃之間。

錐板粘度計(jì)測(cè)試所需樣品體積僅為0.5-2.0 mL(具體的樣品量與所使用的轉(zhuǎn)子型號(hào)相關(guān)),特別適用于微量樣品的粘度測(cè)試,可有效減少產(chǎn)品的消耗;錐板粘度計(jì)使用錐形轉(zhuǎn)子及配套的樣品杯,可以計(jì)算剪切速率和剪切應(yīng)力,得到粘度;由于樣品量很少,可實(shí)現(xiàn)快速恒溫,有效提高測(cè)試效率。TC-650 AP循環(huán)水浴系統(tǒng)的控溫精度可達(dá)0.01℃,為粘度測(cè)試提供準(zhǔn)確及穩(wěn)定的溫度條件。

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